1200℃高校實驗坩堝爐訂做

更新時間：2020-07-10

1200℃高校實驗坩堝爐訂做主要用途：

AFD-1200-LG坩堝爐各項指標均達到了水平，主要用于煅燒真空或惰性氣體保護下的高純度化合物或擴散半導體晶片，也可用于烘燒或燒結陶瓷材料。

1200℃高校實驗坩堝爐訂做技術參數：

產品名稱	1200℃高校實驗室坩鍋爐
產品型號	AFD-1200-LG
爐膛有效尺寸	200x200mm（更多尺寸可供選擇）
正常工作溫度	1100℃
溫度	1200℃
溫控系統	30段PID微電腦可編程自動控制（溫度控制系統采用人工智能調節技術，具有PID調節、自整定功能，并可編制30段升降溫程序）（用戶可選配液晶觸摸屏顯示）
控溫度	±1℃
溫控保護	具有超溫和斷偶保護功能
加熱速率	0~20℃/分
加熱元件	合金電阻絲
工作電壓	AC 220V 單相 50HZ （電路電壓用戶可選擇定制）
大功率	3KW
溫度測試元件	K型熱電偶測溫，正后方測溫
爐殼溫度	≤45℃
凈重	80KG
提供相關配件	坩堝鉗、高溫手套、熱電偶、門堵
電氣認證	CE認證

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